雷建都
【姓名】 雷建都
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 微分析,凸角,湿法刻蚀,硅材料,芯片,KOH溶液,腐蚀深度,微结构,补偿结构,刻蚀速率,PDMS,刻蚀条件,微通道,超声搅拌,向异性,光透过率,微加工技术,微模塑,系集,各向同性刻蚀,
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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[1]孙洋,钱可元,韩彦军,蔡鹏飞,罗毅,雷建都,童爱军.硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用[J]半导体光电.2004,(06)
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