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雷红
【姓名】
雷红
【职称】
【研究领域】
计算机硬件技术;化学;有机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】
作用,涂料润滑剂,进展,富勒烯,膜,滑剂,涂布加工纸,润滑添加剂,研浆,摩擦学,CMP,设备,C60-丙烯酸月桂酯共聚物,平面化技术,纸张涂料,油溶性添加剂,摩擦学行为,共聚物,去除率(MRR),化学...
【工作单位】
清华大学
【曾工作单位】
清华大学;
【所在地域】
北京
学术成果产出统计表
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学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到6篇
[1]马俊杰,潘国顺,雒建斌,雷红,肖宏清.
计算机硬磁盘CMP中抛光工艺参数对去除率的影响
[J]润滑与密封.2004,(01)
[2]雷红,张宏,邓良武.
纸张涂料润滑剂的新进展
[J]纸和造纸.2001,(04)
[3]雷红,官文超,雒建斌.
水溶性富勒烯-甲基丙烯酸共聚物的摩擦学特性
[J]清华大学学报(自然科学版).2002,(S1)
[4]雷红,雒建斌,胡晓莉,官文超.
富勒烯(C_(60))的摩擦学研究进展
[J]润滑与密封.2002,(01)
[5]雷红,雒建斌,马俊杰.
化学机械抛光(CMP)技术的发展、应用及存在问题
[J]润滑与密封.2002,(04)
[6]雷红,雒建斌,杨文言,官文超.
C_(60)-丙烯酸月桂酯共聚物的合成及其摩擦学行为
[J]化学物理学报.2002,(06)
更多
中国重要会议全文数据库
共找到2篇
[1]雒建斌;潘国顺;雷红;高峰;王亮亮;姜小平;.
计算机硬盘系统的表面纳米级抛光研究
[A].制造业与未来中国——2002年中国机械工程学会年会论文集.2002-12-01
[2]雷红;雒建斌;潘国顺;屠锡富;方亮;司马能;.
化学机械抛光(CMP)技术在存储器硬盘抛光中的应用
[A].第七届全国摩擦学大会论文集(二).2002-08-01
更多
研究方向相近的学者
(学者,学者单位)
程冰玲
重庆师范高等专科学校
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潘国顺
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3
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1
马俊杰
清华大学
2
雒建斌
清华大学
7
官文超
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3
胡晓莉
清华大学
1
杨文言
清华大学
1
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清华大学
1
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1
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(学者,学者单位,篇数)
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1
洪瀚
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1
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周鹏
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1
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2
张绪寿
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2
金芝珊
中国科学院兰州市化学物理...
2
阎逢元
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江瑞生
洛阳单晶硅有限责任公司
2
雒建斌
清华大学
1
马俊杰
清华大学
1
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引用过该学者文献的学者
(学者,学者单位,篇数)
雒建斌
清华大学
1
马俊杰
清华大学
1
潘国顺
清华大学
1
孙建章
沈阳理工大学
1
吕玉山
沈阳理工大学
1
孟庆闯
沈阳理工大学
1
肖宏清
中国人民解放军总装备部
1
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