赵慧丽
【姓名】 赵慧丽
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;
【研究方向】 表面工程学研究
【发表文献关键词】 离子氮碳共渗,活性屏,离子渗氮,复合处理,离子氧化,复合渗层,离子软氮化,38CrMoAl钢,纯氮,放电电压,耐蚀性能,后氧化,氮化铁,化合物层,表面处理,离子热处理炉,氧化铁,温式,发黑处理,青岛科...
【工作单位】 青岛科技大学
【曾工作单位】 青岛科技大学;
【所在地域】 山东青岛
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中国期刊全文数据库    共找到4篇
[1]赵程,孙定国,赵慧丽,侯俊英.离子氮碳共渗+离子后氧化双重复合处理的研究[J]金属热处理.2004,(09)
[2]赵慧丽,赵程,孙定国.放电电压对纯氮ASPN处理的影响[J]青岛科技大学学报(自然科学版).2004,(05)
[3]赵程,孙定国,赵慧丽,侯俊英.离子软氮化与离子氧化复合处理[J]青岛科技大学学报(自然科学版).2004,(06)
[4]赵慧丽,赵程,孙定国.纯氮气氛活性屏离子渗氮的研究[J]金属热处理.2005,(03)
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中国优秀硕士学位论文全文数据库    共找到1篇
[1]赵慧丽.活性屏离子渗氮的机理及应用基础研究[D].青岛科技大学.2005
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中国重要会议全文数据库    共找到2篇
[1]赵程;孙定国;赵慧丽;侯俊英;.离子热处理技术研究的最新进展[A].第五届全国表面工程学术会议论文集.2004-04-01
[2]赵程;赵慧丽;侯俊英;.活性屏离子渗氮过程中的粒子形貌与结构研究[A].第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛论文集.2006-08-01
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