刘学直
【姓名】 刘学直
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 区熔,硅单晶,掺杂法,料棒,成晶,熔区,电阻率,n型,杂质浓度,真空提纯,掺杂量,杂质,掺杂剂,工艺系列,掺杂硅,掺杂方法,单晶,p型,粉沫,分凝效应,
【工作单位】 四川省峨眉半导体材料研究所
【曾工作单位】 四川省峨眉半导体材料研究所;
【所在地域】
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[1]刘学直.区熔硅单晶掺杂公式的探讨[J]稀有金属.1989,(03)
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