张西鹏
【姓名】 张西鹏
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;工业通用技术及设备;
【研究方向】 磁控溅射薄膜界面性能研究
【发表文献关键词】 铬膜,溅射薄膜,界面,附着性,锆合金,组织,厚度,复合,铌膜,溅射,离子轰击,基体温度,直流磁控,靶材,溅射膜,薄膜材料,附着性能,工艺条件,溅射功率,溅射沉积,过渡层,界面结合力,破裂载荷,晶粒,材...
【工作单位】 四川大学
【曾工作单位】 四川大学;
【所在地域】 成都
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[1]范洪远;张西鹏;沈保罗;邢忠虎;龙冲生;邱绍宇;邹红;.将平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置[J]新技术新工艺.2007,(09)
[2]范洪远,向文欣,李伟,邱绍宇,李聪,张西鹏,应诗浩,沈保罗.膜厚对溅射铬膜与锆合金基体附着性的影响[J]核动力工程.2003,(03)
[3]张西鹏,李伟,范洪远.工艺条件对溅射薄膜附着性的影响[J]金属热处理.2003,(01)
[4]范洪远,樊庆文,向文欣,李伟,邱绍宇,应诗浩,张西鹏,沈保罗.铌-铬复合溅射膜对锆合金基体的附着性[J]稀有金属材料与工程.2004,(06)
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