孙官清
【姓名】 孙官清
【职称】
【研究领域】 物理学;核科学技术;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 高压电源,钙,二维有序纳米孔,稳定度,X射线光电子能谱分析,调整管,铝膜,辐射物理,离子注入,钙离子,可靠性,主回路,子核,氧化,MoS2Ag复合膜,MoS2Ta复合膜,直流高压,调压器,钛表面,阳极...
【工作单位】 四川大学
【曾工作单位】 四川大学;
【所在地域】 成都
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[9]刘仲阳,王培录,廖小东,郑思孝,孙官清.IBAD MoS_2-Ta复合膜的氧化行为研究[J]真空科学与技术.2000,(04)
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