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于是东
【姓名】
于是东
【职称】
【研究领域】
工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】
热丝法,低温生长,碳化硅,单晶,热丝,碳化硅薄膜,化学气相淀积法,外延层,激活能,生长温度,外延膜,喇曼光谱,衍射谱,单晶结构,气源,硅烷,光致发光,多型体,甲基硅烷,甲烷,
【工作单位】
南京大学
【曾工作单位】
南京大学;
【所在地域】
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共找到1篇
[1]张荣,施洪涛,郑有,于是东,何宇亮,刘湘娜.
热丝法低温生长硅上单晶碳化硅薄膜
[J]高技术通讯.1994,(11)
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1
施洪涛
南京大学
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刘湘娜
南京大学
1
郑有
南京大学
1
张荣
南京大学
1
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(学者,学者单位,篇数)
施洪涛
南京大学
1
郑有
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1
张荣
南京大学
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沈波
南京大学
1
杨凯
南京大学
1
余是东
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