于是东
【姓名】 于是东
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 热丝法,低温生长,碳化硅,单晶,热丝,碳化硅薄膜,化学气相淀积法,外延层,激活能,生长温度,外延膜,喇曼光谱,衍射谱,单晶结构,气源,硅烷,光致发光,多型体,甲基硅烷,甲烷,
【工作单位】 南京大学
【曾工作单位】 南京大学;
【所在地域】
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[1]张荣,施洪涛,郑有,于是东,何宇亮,刘湘娜.热丝法低温生长硅上单晶碳化硅薄膜[J]高技术通讯.1994,(11)
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