邵达
【姓名】 邵达
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅薄膜,多晶,硅膜,电导特性,多晶硅,晶粒间界,硅器件,氢处理,氢原子,陷阱态,悬挂键,晶粒,晶间,缺陷态,宏观缺陷,发射区,CVD法,固体物理,势垒,氢含量,
【工作单位】 南京大学
【曾工作单位】 南京大学;
【所在地域】
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[1]吴汝麟;何宇亮;邵达;.制备非晶态Si∶F∶H合金膜的新方法[J]贵金属.1981,(04)
[2]何宇亮,邵达,马晓娟.GD类多晶硅薄膜的电导特性[J]半导体学报.1985,(04)
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