刘力勇
【姓名】 刘力勇
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 钨薄膜,钨膜,溅射,热稳定性,退火温度,X射线光学,电学性质,电阻温度系数,金属化薄膜,非晶态,非晶态金属,物理室,亚稳态,电阻值,退火处理,南京大学,衬底温度,非晶,结构和电学性质,X射线多层膜,
【工作单位】 南京大学
【曾工作单位】 南京大学;
【所在地域】
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/1 0 0 0 1 169
中国期刊全文数据库    共找到1篇
[1]何宇亮,刘力勇,顾书林,魏盛恩,戎霭伦.溅射钨薄膜热稳定性的研究[J]固体电子学研究与进展.1991,(01)
更多