李学宁
【姓名】 李学宁
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 Ge异质结,低温外延,外延层,P-CVD,外延硅,电学性质,硅薄膜,同质外延,Ge/Si,异质结构,硅膜,南京大学,MOS结构,微结构,物理系,硅单晶,界面过渡区,杂质分布,扩展电阻,英文,外延生长,...
【工作单位】 南京大学
【曾工作单位】 南京大学;
【所在地域】 南京
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[1]郑有炓,张荣,胡立群,钟培新,莫水元,李学宁,顾红.Si/Ge异质结构的生长与特性[J]固体电子学研究与进展.1989,(04)
[2]张荣,郑有炓,李学宁,胡立群,莫水元,顾红,林祖辰,冯端.RLH/VLP-CVD低温赝同质外延硅膜微结构(英文)[J]固体电子学研究与进展.1989,(04)
[3]江若琏,郑有炓,马金中,冯德伸,江宁,张荣,胡立群,李学宁.RRH/VLP-CVD低温外延硅薄膜的电学性质[J]半导体学报.1991,(08)
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