邓咏桢
【姓名】 邓咏桢
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】 三族氮化物材料和器件的研究
【发表文献关键词】 GaN1-xPx,金属有机物化学气相沉积,x射线衍射,拉曼光谱,GaN1-xPx三元合金,压电极化,深陷阱,Si-N键,应力,界面陷阱,金属有机化学气相淀积,Si基,频率谱,光学材料,陷阱态,红移,拉...
【工作单位】 南京大学
【曾工作单位】 南京大学;
【所在地域】 江苏南京
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[1]陈敦军,沈波,张开骁,邓咏桢,范杰,张荣,施毅,郑有炓.GaN_(1-x)P_x薄膜的结构特性研究[J]物理学报.2003,(07)
[2]陈敦军,张开骁,沈波,邓咏桢,濮林,张荣,施毅,郑有炓.GaN_(1-x)P_x三元合金的光学与结构特性[J]光学学报.2004,(01)
[3]邓咏桢,孔月婵,郑有炓,周春红,沈波,张荣.硅基AlN应力和压电极化研究[J]稀有金属.2004,(03)
[4]邓咏桢,郑有炓,周春红,孔月婵,陈鹏,叶建东,顾书林,沈波,张荣,江若琏,韩平,施毅.Si基MOCVD生长AlN深陷阱中心研究[J]半导体学报.2004,(09)
[5]周春红,郑有炓,邓咏桢,孔月婵,陈鹏,席冬娟,顾书林,沈波,张荣,江若琏,韩平,施毅.AlN-Si(111)异质结构界面陷阱态研究[J]物理学报.2004,(11)
[6]邓咏桢;孔月婵;江宁;郑有炓;朱顺民;韩平;施毅;张荣;.CVD生长Si基Si_(1-x-y)Ge_xC_y合金层应变的研究[J]固体电子学研究与进展.2005,(04)
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