曾永键
【姓名】 曾永键
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 激光化学沉积,钨膜,中间态寿命,气室,光强,沉积速率,分解速率,缓冲气体,气压,石英基片,近紫外,气至,激光技术,光分解,紫外相干辐射,ADP晶体,原子,激光化学气相沉积,金属羰基化合物,顾原,
【工作单位】 上海市激光技术研究所
【曾工作单位】 上海市激光技术研究所;
【所在地域】
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[1]曾永键,顾原岗,邱明新.钨膜的激光化学沉积[J]中国激光.1985,(06)
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