顾原岗
【姓名】 顾原岗
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 激光化学沉积,腔外倍频,钨膜,氟化氢,混合过程,共价键,膜层厚度,晶体,热分解,氩激光,铜块,透射电子显微镜,氢离子,沉积速率,沉积膜,基片材料,谐波功率,金属有机化合物,液态扩散,ADP晶体,欧姆接...
【工作单位】 上海市激光技术研究所
【曾工作单位】 上海市激光技术研究所;
【所在地域】
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[1]顾原岗,曾永健,邱明新.氩激光腔外倍频[J]中国激光.1984,(10)
[2]顾原岗,沈光平,邱明新.激光化学沉积[J]自然杂志.1984,(04)
[3]曾永键,顾原岗,邱明新.钨膜的激光化学沉积[J]中国激光.1985,(06)
[4]邱明新,顾原岗,曾永健.钨膜的激光化学沉积速率饱和测定法[J]计量学报.1985,(02)
[5]周政卓,顾原岗,邱明新.钨膜的激光化学气相沉积[J]激光杂志.1985,(04)
[6]李丁,顾原岗,沈光平,邱明新.激光诱导直接化学光刻[J]光学学报.1987,(01)
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