万永中
【姓名】 万永中
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;工业通用技术及设备;自动化技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 金刚石,金刚石薄膜,含氮气源,离子束刻蚀,压阻效应,相图,平坦表面,化学气相淀积,金刚石生长,衬底温度,灵敏度因子,微压,涂层丝,涂层纤维,反应气体,激活温度,压阻式,丝,纤维,力传感器,金刚石涂层,...
【工作单位】 上海交通大学
【曾工作单位】 上海交通大学;
【所在地域】 上海
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[1]费继承,王庆康,万永中,段智勇.压电线性马达与纳米马达[J]压电与声光.2003,(04)
[2]莘海维,张志明,沈荷生,戴永兵,万永中.高温压力传感器的新进展——金刚石微压力传感器[J]化学世界.2000,(S1)
[3]何贤昶,沈荷生,张志明,万永中,沈挺.在硅(001)上预沉积β-SiC定向层后金刚石薄膜的定向生长[J]物理学报.2000,(03)
[4]何贤昶,沈荷生,张志明,胡晓君,杨小倩,万永中.CVD金刚石涂层丝和涂层纤维[J]机械工程材料.2001,(09)
[5]杨小倩,沈荷生,张志明,胡晓君,黄江,万永中,何贤昶.大面积平整金刚石薄膜的制备(英文)[J]功能材料与器件学报.2001,(03)
[6]何贤昶,沈荷生,张志明,胡晓君,杨小倩,万永中.CVD金刚石薄膜在钨丝和碳纤维上的制备(英文)[J]功能材料与器件学报.2001,(03)
[7]莘海维,张志明,沈荷生,戴永兵,万永中.压阻式金刚石微压力传感器[J]微细加工技术.2001,(01)
[8]奚正蕾,莘海维,张志明,凌行,沈荷生,戴永兵,万永中,陆鸣.常规与纳米金刚石薄膜介电性能的比较[J]微细加工技术.2001,(04)
[9]万永中,张志明,沈荷生,何贤昶,张卫,王季陶.C-H-N体系生长金刚石薄膜[J]无机材料学报.1999,(06)
[10]张志明,沈荷生,何贤昶,万永中,杨艺蓉,任琮欣.大面积平坦金刚石薄膜的制备和图形化[J]微细加工技术.1999,(04)
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中国重要会议全文数据库    共找到4篇
[1]张志明;孙方宏;沈荷生;陈明;万永中;.改善金刚石薄膜涂层刀具性能的CVD后处理新工艺[A].2000年材料科学与工程新进展(上)——2000年中国材料研讨会论文集.2000-06-30
[2]万永中;戴永兵;王庆康;曾令刚;辛海维;沈荷生;张志明;.纳米结构和器件的自组装技术[A].2001年纳米和表面科学与技术全国会议论文摘要集.2001-05-01
[3]莘海维;奚正蕾;张志明;凌行;沈荷生;戴永兵;万永中;.纳米金刚石薄膜的制备与介电性能[A].2001年纳米和表面科学与技术全国会议论文摘要集.2001-05-01
[4]黄钢;何贤昶;张志明;万永中;戴永兵;沈荷生;.上置偏压热丝CVD制备纳米金刚石涂层[A].2001年纳米和表面科学与技术全国会议论文摘要集.2001-05-01
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