经开良
【姓名】 经开良
【职称】
【研究领域】 材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 电子浓度,质点强化,X相,稀土,合金,相界,Ti合金,存在形态,相析出,价电子数,超点阵,Al当量,脱氧反应,衍射斑,位错,Nd_2O_3,Al含量,暗场,颗粒,过渡族元素,合金元素,Ti-Al,形貌...
【工作单位】 上海工业大学
【曾工作单位】 上海工业大学;
【所在地域】
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[1]万晓景,经开良,史文,尤杰,张丙.Ti_3X相析出的电子浓度规律[J]材料科学进展.1992,(01)
[2]万晓景,经开良,史文,张丙,李东,杨锐.稀土Nd在Ti合金中的存在形态及其对Ti_3X相析出的影响[J]材料科学进展.1992,(01)
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