徐希翔
【姓名】 徐希翔
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 辉光放电法,光电性能,a-Si,H膜,硅烷,激元,乙烯,甲烷,ESCA,XPS研究,光隙,子体,价带,化学移动,电子结合能,含碳量,悬挂键,ESR研究,C含量,G值,ESCA分析,太阳电池,合金膜,光...
【工作单位】 兰州大学
【曾工作单位】 兰州大学;
【所在地域】
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[1]陈光华,张仿清,徐希翔,杜宁,王会生.用硅烷和甲烷辉光放电法制备的a-Si_xC_(1-x):H薄膜及光电性能的研究[J]太阳能学报.1982,(04)
[2]陈光华,张仿清,徐希翔.用XPS研究GD-a-Si_xC_(1-x):H膜中等离子体激元的特征[J]物理学报.1983,(06)
[3]陈光华,张仿清,杜宁,徐希翔,黄士生,刘智.用硅烷和乙烯辉光放电法制备的a-Si_xC_(1-x):H薄膜及光电性能的研究[J]半导体学报.1983,(02)
[4]陈光华,张仿清,徐希翔,森本章治,久米田稔,清水立生.掺杂的a-Si_(1-x)C_x:H膜的LESR研究[J]物理学报.1986,(04)
[5]张仿清,徐希翔,陈光华,蒋致诚,陈正石,齐尚奎.用紫外光电子能谱研究a-Si_(1-x)C_x:H的价带特性[J]物理学报.1986,(09)
[6]陈光华,张仿清,徐希翔,清水立生.掺杂(硼和磷)a-Si_(1-x)C_x:H膜中氢含量的测量[J]半导体学报.1986,(05)
[7]王印月,张亚非,徐希翔,刘宗文,张仿清.用空间电荷限制电流法测量非晶硅基薄膜的隙态密度[J]无机材料学报.1987,(03)
[8]徐希翔,张仿清,陈光华.用EELS和UPS研究非晶碳价电子特性[J]科学通报.1987,(02)
[9]张仿清,王会生,徐希翔,严百平.掺锑SnO_2膜XPS和AES分析[J]太阳能学报.1988,(02)
[10]徐希翔,张仿清,陈光华.VALENCE-ELECTRON BEHAVIOR OF AMORPHOUS CARBON FILMS STUIED BY EELS AND UPS[J]Science Bulletin.1988,(16)
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