裘元勋
【姓名】 裘元勋
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 增强附着,薄膜,溅射,重离子,重离子束,耐腐蚀性,微裂,金属膜,Si膜,原子移位,离子束,抗蚀性,原子混合,入射,绝缘体,阈值,金属薄膜,GaAs,电离激发,带法,低能离子束,基底材料,离子束轰击,高...
【工作单位】 兰州大学
【曾工作单位】 兰州大学;
【所在地域】
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[1]裘元勋.快重离子束引起的界面增强附着效应[J]核技术.1986,(07)
[2]刘正民,杨坤山,杨化中,裘元勋.MeV重离子轰击引起金属膜抗蚀性的研究[J]真空.1989,(04)
[3]刘正民,杨坤山,杨化中,裘元勋.快重离子束引起的Cu-Si膜系的两种不同类型的增强附着效应[J]核技术.1990,(09)
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