祁菁
【姓名】 祁菁
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 等离子体CVD,Al诱导,Si薄膜,多晶Si薄膜,电感耦合,低温生长,晶化,等离子体化学气相沉积,制备,低温多晶Si薄膜,Ar稀释SiH4,H2比例,反应气体,纳米晶Si,AAO衬底,PECVD,等离...
【工作单位】 兰州大学
【曾工作单位】 兰州大学;
【所在地域】 甘肃兰州
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中国期刊全文数据库    共找到4篇
[1]祁菁;金晶;胡海龙;高平奇;袁保和;贺德衍;.H_2对Ar稀释SiH_4等离子体CVD制备多晶硅薄膜的影响[J]物理学报.2006,(11)
[2]胡海龙;彭尚龙;唐泽国;祁菁;贺德衍;.在AAO衬底上制备纳米Si阵列研究[J]兰州大学学报(自然科学版).2007,(01)
[3]王晓强,栗军帅,陈强,祁菁,尹旻,贺德衍.电感耦合等离子体CVD低温生长硅薄膜过程中的铝诱导晶化[J]物理学报.2005,(01)
[4]祁菁,金晶,胡海龙,贺德衍.Al诱导a-Si:H薄膜的晶化[J]真空科学与技术学报.2005,(01)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]祁菁;贺德衍;.AlCl_3诱导晶化法制备多晶硅薄膜[A].第十六届全国半导体物理学术会议论文摘要集.2007-09-01
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承担国家科研项目    共找到1个
[1]祁菁.透明室温铁磁半导体Zn1-xErxO的制备及磁性机理研究[A].兰州大学.项目经费 20万元.2009-03-20.资助文献数 0 篇
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