缑洁
【姓名】 缑洁
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 分子模板,SiO_2,低介电常数,多孔SiO_2,缔合羟基,纳米,溶胶,介电常数,物理学院,热处理温度,法制,多孔SiO2,TEOS,FTIR光谱,伸缩振动吸收峰,聚氧乙烯醚,表面活性剂,纳米多孔材料...
【工作单位】 兰州大学
【曾工作单位】 兰州大学;
【所在地域】 兰州
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[1]缑洁;何志巍;潘国辉;王印月;.用SCLC法研究低k多孔SiO_2:F薄膜的隙态密度[J]物理学报.2006,(06)
[2]何志巍,甄聪棉,缑洁,兰伟,郭得峰,王印月.分子模板法制备纳米多孔SiO_2薄膜[J]稀有金属.2004,(03)
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