沈天慧
【姓名】 沈天慧
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;电力工业;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 导磁层,化学镀镍,永磁体,坡莫合金,腐蚀,Nd-Fe-B,微电机,微泵,耐腐蚀性,刻蚀液,化学刻蚀,微驱动机构,键合,各向异性刻蚀,微马达,稀土,镀层成份,形状记忆合金薄膜,纳米,电沉积,各向同性刻蚀...
【工作单位】 上海交通大学
【曾工作单位】 上海交通大学;
【所在地域】 上海
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[1]沈天慧;.VLSI工艺技术——五、超微细加工[J]微电子学与计算机.1988,(10)
[2]曹莹,沈天慧,姚锦元,丁桂甫.电沉积纳米锌层的研究[J]电化学.2004,(01)
[3]张寿柏,丁桂甫,郭晓芸,沈天慧.微机电系统中的材料和加工[J]上海有色金属.2000,(03)
[4]丁桂甫,俞爱斌,赵小林,姚翔,沈天慧.CVD金刚石薄膜RIE掩模技术研究[J]微细加工技术.2001,(03)
[5]丁桂甫,徐东,赵小林,张寿柏,蔡炳初,沈天慧.镍钛合金形状记忆薄膜的化学刻蚀[J]微细加工技术.1999,(03)
[6]丁桂甫，张寿柏，李依群，徐东，沈天慧.微马达转子电镀导磁层的研究[J]微细加工技术.1996,(03)
[7]丁桂甫,姚锦元,杨春生,张寿柏,沈天慧.Nd-Fe-B永磁体化学镀镍抗腐蚀性能的研究[J]材料保护.1997,(03)
[8]沈天慧;.VLSI工艺技术——六、低温工艺[J]微电子学与计算机.1989,(04)
[9]沈天慧.VLSI技术中的金属化工艺[J]微电子学与计算机.1991,(10)
[10]汪师俊,蔡琪玉,沈天慧.光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——Ⅱ光化学气相淀积氮化硅膜的性质[J]微电子学与计算机.1993,(03)
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