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赵守臣
【姓名】
赵守臣
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;工业经济;企业经济;
【研究方向】
【发表文献关键词】
热载流子,静电释放,沟道,深亚微米,ESD保护,互作用,漏结,栅氧化层,MOS器件,器件寿命,退化效应,可靠性问题,幸运载流子,接地栅,突变结,陷阱电荷,衬底电流,陷阱效应,IEEE,失效阈值,
【工作单位】
上海交通大学
【曾工作单位】
上海交通大学;
【所在地域】
上海
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学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到1篇
[1]施周渊,赵守臣,汤玉生.
在深亚微米MOS技术中HC退化与ESD的相互作用
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