戴姣燕
【姓名】 戴姣燕
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 金属薄膜,气相沉积,金属化学,前驱体,化学气相沉积,研究进展,沉积贵金属,涂层,金属材料,应用状况,涂层材料,贵金属,制备方法,简要介绍,化合物,Au薄膜,沉积速率,基体温度,Ag薄膜,LCVD,
【工作单位】 昆明贵金属研究所
【曾工作单位】 昆明贵金属研究所;
【所在地域】 云南昆明
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[1]胡昌义,戴姣燕,陈松,欧阳远良,王云.贵金属化学气相沉积的研究进展[J]贵金属.2005,(02)
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