程秀兰
【姓名】 程秀兰
【职称】 研究员;
【研究领域】 无线电电子学;材料科学;计算机硬件技术;
【研究方向】 下一代非易失存储器的开发
【发表文献关键词】 TiNi,形状记忆合金,形状记忆效应,微执行器,超弹性,微驱动器,微传感器,引线键合,球形焊接,楔形焊接,反向键合,微机电系统,微阀,相变,氮化硅,半导体制造工艺,湿法刻蚀,湿法清洗,缺陷,合金薄膜,...
【工作单位】 上海交通大学
【曾工作单位】 上海交通大学;
【所在地域】 上海
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/74 31 21 4 328 12945
中国期刊全文数据库    共找到81篇
[1]刘民;付刘成;乌李瑛;程秀兰;付学成;.LNOI沉积非晶硅薄膜起泡问题研究[J]真空.2026,(02)
[2]廖汝俊;薛崔伟;刘民;瞿敏妮;权雪玲;程秀兰;.Slow-light grating waveguide with a large delay-bandwidth product based on degenerate band-edge resonance[J]Chinese Optics Letters.2026,(03)
[3]乌李瑛;刘丹;张文昊;马玲;王英;程秀兰;.工艺参数对PEALD TaN导电薄膜的影响[J]半导体技术.2026,(04)
[4]刘丹;乌李瑛;田苗;张文昊;杨佩艺;付学成;程秀兰;.SAC305焊球激光植球工艺优化[J]半导体技术.2026,(05)
[5]金鑫;徐锦滨;李雅倩;薛崔伟;廖汝俊;付刘成;刘民;沈赟靓;权雪玲;程秀兰;.Fabrication-constrained inverse design and demonstration of high-performance grating couplers[J]Chinese Optics Letters.2024,(11)
[6]乌李瑛;刘丹;付学成;程秀兰;.掺杂氧化铪基薄膜铁电性能的研究进展[J]真空.2024,(01)
[7]瞿敏妮;刘思琦;刘民;李进喜;陈舒静;付学成;程秀兰;.高侧壁垂直度超浅铌酸锂光栅耦合器的加工工艺及耦合效率[J]微纳电子技术.2024,(01)
[8]田苗;刘民;林子涵;付学成;程秀兰;吴林晟;.基于两步刻蚀工艺的锥形TSV制备方法[J]半导体技术.2024,(04)
[9]乌李瑛;刘丹;权雪玲;程秀兰;张芷齐;高庆学;付学成;徐丽萍;张文昊;马玲;.石英玻璃刻蚀浅锥孔阵列的工艺研究[J]半导体光电.2024,(03)
[10]付学成;刘民;张笛;程秀兰;王英;.高深宽比硅孔溅射铜种子层工艺的探索与研究[J]真空.2024,(04)
更多