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蔡荀
【姓名】
蔡荀
【职称】
【研究领域】
工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】
TiN薄膜,力学性能,制备方法,工艺参数,TiN膜,TIN薄膜,离子镀,脉冲偏压,多弧,沉积温度,PCVD,靶电流,硬度,结合力,基体温度,溅射,磁控,化学气相沉积,镀膜,反应室,
【工作单位】
上海交通大学
【曾工作单位】
上海交通大学;
【所在地域】
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共找到1篇
[1]武咏琴,李刘合,张彦华,胡亚伟,刘佑铭,蔡荀.
TiN膜的制备和进展
[J]新技术新工艺.2004,(12)
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合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
张彦华
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刘佑铭
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1
武咏琴
北京航空航天大学
1
胡亚伟
上海交通大学
1
李刘合
北京航空航天大学
1
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该学者文献引用过的学者
(学者,学者单位,篇数)
冯钟潮
中国科学院金属研究所
8
张鸿俭
沈阳工业学院
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