杨晓晔
【姓名】 杨晓晔
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 偏压成核,织构生长,金刚石薄膜,成核,金刚石膜,镜面抛光,成核密度,负偏压,底表面,织构,定向生长,柱状结构,渗碳期,晶粒,稳定晶核,加偏压,成核期,非定向,等离子体刻蚀,镜面抛光硅片,
【工作单位】 上海大学
【曾工作单位】 上海大学;
【所在地域】
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[1]戴雯琦,居建华,许俊芬,杨晓晔,夏义本.金刚石薄膜在Si(100)上的偏压成核与织构生长的研究[J]上海大学学报(自然科学版).1999,(01)
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