罗庆芳
【姓名】 罗庆芳
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 干涉显微镜,氧化硅,显微图象,内表面,镜面,无损检测,精度检测,杂质沉淀,红外电视显微镜,二次离子质谱,钝化膜,紫外光致荧光,硅中铁玷污,金属杂质,洁净晶片,荧光峰,厚膜,高可靠,多层薄膜,数量级,激...
【工作单位】 江西大学
【曾工作单位】 江西大学;
【所在地域】
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[1]曾庆城,罗庆芳.镜面磨角法检测硅芯片上的多层薄膜[J]南昌大学学报(理科版).1983,(01)
[2]曾庆城,罗庆芳.热氧化硅内表面的结构与特性[J]南昌大学学报(理科版).1985,(02)
[3]曾庆城,王水凤,罗庆芳,胡解生,任建雄,廖隆宣.对半导体杂质沉淀无损检测的若干结果[J]南昌大学学报(理科版).1989,(02)
[4]曾庆城,王水凤,罗庆芳,严中一,张霖霖.半导体晶片Fe/Ni玷污的紫外荧光谱研究[J]南昌大学学报(理科版).1992,(01)
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