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黄绪达
【姓名】
黄绪达
【职称】
【研究领域】
化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
二甲酚橙,痕量铟,吸附伏安法,峰电流,硫酸镍,伏安分析,极谱法测定,甲酚,富集电位,伏安图,次导数,悬汞电极,镍片,型函数,检测下限,富集时间,山东大学,三电极体系,化学系,络合物,
【工作单位】
山东大学
【曾工作单位】
山东大学;
【所在地域】
济南
学术成果产出统计表
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共找到1篇
[1]温世祺,张晓丽,王丽增,黄绪达.
铟-二甲酚橙吸附伏安法测定痕量铟
[J]冶金分析.1992,(05)
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(学者,学者单位,篇数)
张晓丽
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温世祺
山东大学
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王丽增
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