赵来
【姓名】 赵来
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 测试,MgO,反应磁控溅射,二氧化硅特性,二次电子,发射系数,镀膜,在线联镀,ITO,SiO2,中频双靶反应磁控溅射,反应溅射,等离子体显示器件,着火电压,反射型液晶显示器,溅射,TiO2膜,优化靶设...
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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[1]杨勇;赵来;陈旭;查良镇;许生;范垂祯;.中频反应溅射TiO_2时的Ti靶特性[J]真空科学与技术学报.2006,(05)
[2]赵来,刘翔宇,许生,范垂祯,高文波,陈旭,杨美芹,查良镇.中频双靶反应磁控溅射制备TiO_2膜的一些探索[J]真空.2003,(01)
[3]刘翔宇,赵来,许生,范垂祯,查良镇.磁控溅射镀膜设备中靶的优化设计[J]真空.2003,(04)
[4]许生,侯晓波,范垂祯,赵来,周海军,吴克坚,高文波,颜远全,查良镇.硅靶中频反应磁控溅射二氧化硅薄膜的特性研究[J]真空.2001,(05)
[5]赵来,查良镇,范垂祯,许生.等离子体显示器件中氧化镁膜的制备和测试[J]真空.2001,(05)
[6]许生,侯晓波,范垂祯,赵来,周海军,吴克坚,高文波,颜远全,查良镇.中频反应溅射SiO_2膜与直流溅射ITO膜的在线联镀[J]真空.2002,(05)
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