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张克宏
【姓名】
张克宏
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
晶须,α-Si_3N_4,缺陷与气氛,生长气氛,氮化硅,杂质氧,X射线,氯含量,保护气氛,透射电镜,α相,β相,超细粉,原位生长,氨基化物,无定形,氮含量,氧含量,衍射图,α/β相,
【工作单位】
清华大学
【曾工作单位】
清华大学;
【所在地域】
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共找到1篇
[1]吴华武,徐功骅,尉京志,来月英,张克宏.
α-Si_3N_4晶须中缺陷与晶须生长气氛关系的研究
[J]复合材料学报.1996,(02)
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