潘国顺
【姓名】 潘国顺
【职称】 副研究员;
【研究领域】 无线电电子学;金属学及金属工艺;无机化工;
【研究方向】 材料表面改性及摩擦学方面的研究
【发表文献关键词】 CrN,离子镀,塞环,摩擦学性能,(Ti,Cr)N多元膜层,活塞环,工艺与性能,磨损表面,硬质膜,混合润滑,多弧离子镀,动态接触,离子镀膜,缸套,氮分压,多弧,配副,二氧化硅水溶胶,薄膜润滑,去除率(...
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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中国期刊全文数据库    共找到32篇
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[8]徐莉;潘国顺;梁晓璐;罗桂海;邹春莉;陈高攀;.氮/硫双杂化非贵金属碱性阴离子膜燃料电池阴极非铂催化剂[J]高等学校化学学报.2014,(05)
[9]汪嘉澍;潘国顺;梁晓璐;林广川;郭丹;.转印法制备质子交换膜燃料电池膜电极组件[J]电源技术.2014,(06)
[10]郭玉龙;郭丹;潘国顺;雒建斌;.布线图案导致的集成电路平坦化损伤研究[J]电子元件与材料.2014,(07)
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[2]潘国顺;曲敬信;邵荷生;.脉冲放电电火花熔涂W、Cr工艺及强化层性能研究[A].21世纪全国耐磨材料大会——第九届全国耐磨材料磨损失效分析与抗磨技术学术会议论文专辑.2000-10-01
[3]雒建斌;潘国顺;雷红;高峰;王亮亮;姜小平;.计算机硬盘系统的表面纳米级抛光研究[A].制造业与未来中国——2002年中国机械工程学会年会论文集.2002-12-01
[4]潘国顺;雒建斌;路新春;.离子镀CrN硬质膜的组织结构及其抗空蚀性能[A].第七届全国摩擦学大会会议论文集(一).2002-08-01
[5]雷红;雒建斌;潘国顺;屠锡富;方亮;司马能;.化学机械抛光(CMP)技术在存储器硬盘抛光中的应用[A].第七届全国摩擦学大会论文集(二).2002-08-01
[6]徐进;雒建斌;路新春;潘国顺;.硅片化学机械抛光碰撞去除机理研究[A].人才、创新与老工业基地的振兴——2004年中国机械工程学会年会论文集.2004-10-01
[7]潘国顺;杨文言;.活塞环离子镀膜的摩擦学性能研究及磨损表面的扫描电镜观察[A].第二届全国扫描电子显微学会议论文集.2001-06-30
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承担国家科研项目    共找到1个
[1]潘国顺;.化学机械组合作用功能粒子及其超精抛光机理研究[A].清华大学;.项目经费 35万元.2007-03-31.资助文献数 2
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