何小寅
【姓名】 何小寅
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 氮化,电子陷阱,热氮化,正电荷,抗氧化,辐照,膜性能,抗辐射性能,击穿特性,介质膜,高场应力,氮化膜,有效方法,外加电场,外加电压,子学,高场,高电场应力,效正,介质薄膜,
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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[1]吾立峰,熊大菁,顾祖毅,靳东明,刘理天,何小寅.氮化后退火——一种提高超薄热氮化SiO_2 膜性能的有效方法[J]半导体学报.1988,(04)
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