国清华
【姓名】 国清华
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 晶体薄膜,激子,薄膜,三元化合物,吸收谱,单一相,液氮温度,束缚能,跃迁,晶格结构,衍射图样,现代应用,低温吸收,晶格常数,晶态,晶体膜,蒸镀,激子峰,分析与计算,定域,禁带宽度,特征峰,向异性,内插...
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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[1]孙家林,吴源,国清华,李师群.三元化合物材料Cs_xCu_(1-x)I晶体薄膜的制备及其结构研究[J]功能材料.1999,(05)
[2]孙家林,国清华,吴源,李师群.Cs_3Cu_2I_5晶体薄膜吸收谱的研究[J]光谱学与光谱分析.1999,(05)
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