鲁智宽
【姓名】 鲁智宽
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;化学;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 MOCVD法,外延薄膜,超导薄膜,有机源,晶体材料,铁电薄膜,MOCVD,铁电体,循环流动法,山东大学,常压MOCVD,常压,济南,磷酸二氢钾晶体,溶液晶体生长,过饱和度,高温超导薄膜,汽相沉积,两种...
【工作单位】 山东大学
【曾工作单位】 山东大学;
【所在地域】 济南
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[1]鲁智宽，高樟寿，李义平，王灿.溶液循环流动法生长大尺寸KDP晶体[J]人工晶体学报.1996,(01)
[2]王弘,王晓林,鲁智宽,于淑琴,蒋民华.MOCVD法制备Bi-Sr-Ca-Cu-O超导薄膜[J]人工晶体学报.1991,(Z1)
[3]于淑琴,鲁智宽,蒋民华,王弘,王晓临,黄柏标,杨兆荷,董胜明,尚书霞.MOCVD法生长MgO外延薄膜[J]人工晶体学报.1991,(Z1)
[4]付丽伟,王弘,尚淑霞,王晓临,于淑琴,鲁智宽,徐平茂,蒋民华.常压MOCVD制备Bi_4Ti_3O_(12)铁电薄膜[J]人工晶体学报.1993,(02)
[5]鲁智宽,于淑琴,杨兆荷,蒋民华.铋、锶、钙、铜有机源的研究[J]稀有金属.1993,(06)
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