于新好
【姓名】 于新好
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅片,溶液清洗,XPS,X射线光电子谱,清洗工艺,表面清洗,RCA清洗,红外吸收谱,半导体清洗,硅片清洗,清洗技术,形貌,洗硅,粗糙化,超大规模集成电路,集成电路,原子力显微镜,润湿性,高纯水,电子清...
【工作单位】 山东大学
【曾工作单位】 山东大学;
【所在地域】 济南
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[1]张树永,郭永榔,曹宝成,于新好.超大规模集成电路硅片溶液清洗技术的进展[J]化学进展.2000,(01)
[2]曹宝成,于新好,马瑾,马洪磊,刘忠立.用含表面活性剂和螯合剂的清洗液清洗硅片的研究[J]半导体学报.2001,(09)
[3]曹宝成,于新好,马洪磊,张庆坤.氢氟酸在新型清洗工艺中的作用[J]半导体技术.2002,(07)
[4]曹宝成,于新好,马洪磊.新型半导体清洗剂的清洗工艺[J]半导体学报.2002,(07)
[5]曹宝成,于新好,马谨,马洪磊,刘忠立.清洗后硅片表面的电子结构[J]固体电子学研究与进展.2002,(04)
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