山本正树
【姓名】 山本正树
【职称】
【研究领域】 仪器仪表工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 软X射线,超薄膜,光学常数,反射率,反射率测量,数据解析,变参量,波段,反射率计,Fresnel,掠入射,拟合,入射角,曲线拟合,多重反射,消光系数,评价函数,解析过程,反射系数,析射率,
【工作单位】 日本东北大学
【曾工作单位】 日本东北大学;
【所在地域】
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[1]曹健林,陈星旦,柳原美广,山本正树,波冈武.软X射线(60~900eV)超薄膜的光学常数[J]光学学报.1990,(08)
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