朱庆山
【姓名】 朱庆山
【职称】
【研究领域】 核科学技术;无机化工;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 功能梯度膜,模型,磁场,应用,磁场流态化,自由能最小法,活性氧化,惰性氧化,SiC涂层,化学平衡,流态化,场强度,床层,铁磁性物质,流化床,抗氧化,氧化实验,石墨材料,化学气相沉积,SiSiC涂层,热...
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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[1]朱庆山,邱学良,马昌文.高温气冷堆抗氧化燃料元件氧化行为分析[J]核科学与工程.1999,(04)
[2]朱庆山,李洪钟.磁场流态化技术的研究及其应用[J]化工冶金.1995,(03)
[3]朱庆山，贺俊，邱学良，马昌文.石墨材料抗氧化功能梯度膜的研究[J]材料保护.1996,(12)
[4]朱庆山，邱学良，马昌文.SiC高温氧化的热力学研究[J]计算机与应用化学.1996,(02)
[5]朱庆山,邱学良,马昌文.抗氧化石墨材料的实验研究[J]清华大学学报(自然科学版).1997,(06)
[6]朱庆山,邱学良,马昌文.化学气相沉积制备SiC涂层——I.热力学研究[J]化工冶金.1998,(03)
[7]朱庆山,邱学良,马昌文.化学气相沉积制备SiC涂层——Ⅱ.动力学研究[J]化工冶金.1998,(04)
[8]朱庆山,邱学良,马昌文.HTR-10 球形燃料元件基体石墨抗氧化研究[J]高技术通讯.1998,(03)
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