朱德华
【姓名】 朱德华
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 金属硅化物,强流,Ti－Si,硅化物,金属离子源,离子束,束流密度,离子注入,薄层电阻,新技术,载能束,注入层,二硅化物,单晶硅,化合物,束流,流密度,金属蒸汽真空弧,金属离子束,脉冲辐照,低电阻率,...
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】
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[1]柳百新，朱德华，卢红波.一种制备金属硅化物的离子束新技术[J]物理.1994,(02)
[2]朱德华，卢红波，柳百新.用强流金属离子源研究Ti－Si化合物的形成[J]半导体学报.1995,(03)
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