王永顺
【姓名】 王永顺
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;计算机硬件技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 快速热氮化,SiO_2膜,界面态密度,高电场,电子陷阱,击穿时间,辐照,辐照特性,电特性,漏电流,电场强度E,量级,技术分析,条件,介质膜,正电荷,加偏压,热生长,界面态,氮元素,
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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[1]王永顺,熊大菁,李志坚.快速热氮化超薄SiO_2膜特性的研究[J]半导体学报.1990,(08)
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