卢建平
【姓名】 卢建平
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;化学;无机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】 无显影气相光刻,光致诱蚀,诱蚀剂,导电高分子材料,聚乙炔,氧化层,晶闸管元件,导电高分子,晶闸管,光刻,氧化硅,聚苯胺,曝光区,光刻胶,显影,聚合物膜,大功率,可溶性导电高分子,氟阴离子,高分子,水溶...
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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[1]洪啸吟,李钟哲,刘丹,吴兵,卢建平,段生权,陈明,王培清.无显影气相光刻(DFVP)研究的进展[J]高分子通报.2002,(03)
[2]王培清，卢建平，陈永麒，张斌，洪啸吟.光致诱蚀无显影气相光刻（DFVP）作用机理及其应用[J]半导体技术.1995,(02)
[3]王培清，卢建平，陈永麒.无显影气相光刻在大功率晶闸管元件生产中的应用[J]电力电子技术.1995,(02)
[4]陈其道,卢建平,洪啸吟.导电高分子材料的新进展[J]材料研究学报.1997,(06)
[5]洪啸吟,段生权,卢建平,王培清.氟化氢与涂有聚合物膜下二氧化硅的反应研究[J]高分子学报.1998,(02)
[6]段生权,卢建平,洪啸吟.无显影气相光刻机理研究[J]化工进展.1998,(01)
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