韩丽瑛
【姓名】 韩丽瑛
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 反应离子镀,特征矩阵,多层膜,多层薄膜,光学薄膜,牢固度,表面粗糙度,电场分布,新矩阵,氧化钨,微观结构分析,膜特征,光电薄膜,电场,超高斯函数,电致变色,超高斯,反应蒸发,电子束蒸发,切向分量,激光...
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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[1]李捍东，曾志国，高健存，韩丽瑛.低压反应离子镀氧化钨电致变色薄膜[J]激光与红外.1996,(04)
[2]韩丽瑛.光电薄膜技术的新动向[J]世界电子元器件.1996,(09)
[3]高健存,安吉申,韩大年,韩丽瑛.超高斯渐变反射率激光反射镜[J]光学技术.1997,(03)
[4]窦任生;殷立峰;韩丽瑛;.空阴极氦氪离子激光器激励过程的探讨[J]激光与红外.1982,(05)
[5]郑舒颖,韩丽瑛.计算多层膜电场分布的新矩阵方法[J]光学学报.1987,(09)
[6]王建成,韩丽瑛,高健存.反应离子镀光学薄膜的微观结构分析[J]光学学报.1993,(10)
[7]王建成,韩丽瑛,高健存.反应离子镀光学薄膜的牢固度和表面粗糙度分析[J]激光与红外.1993,(06)
[8]王建成,韩丽瑛.反应离子镀制备ITO膜[J]光学技术.1993,(05)
[9]王建成,谢国会,高健存,韩丽瑛.反应离子镀TiO_2膜的聚集密度的测定[J]光电子·激光.1993,(03)
[10]王建成;王喜中;韩丽瑛;.光学薄膜的反应离子镀概述[J]河南师范大学学报(自然科学版).1993,(02)
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