高占友
【姓名】 高占友
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 直流磁控,AlN薄膜,铝薄膜,反应溅射,氮化,溅射制备,溅射,体声波,FWHM,溅射功率,滤波器,晶向,取向性,子学,谐振器,压电,反应溅射法,晶向结构,表面形貌,微电,
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/1 1 1 0 28 413
中国期刊全文数据库    共找到1篇
[1]于毅,赵宏锦,高占友,任天令,刘理天.直流磁控反应溅射制备硅基AlN薄膜[J]压电与声光.2005,(01)
更多