付玉霞
【姓名】 付玉霞
【职称】 助理工程师;
【研究领域】 无线电电子学;仪器仪表工业;
【研究方向】 VLSI工艺研究与开发
【发表文献关键词】 线宽(CD)损失,刻蚀速率,超高真空低压化学汽相淀积,SiGe,干法刻蚀,RIE,EFL,选择性,设备模型,氮化硅,湿法腐蚀,发射极台面,异质结双极晶体管,RIE刻蚀,四探针,线性拟合,腐蚀技术,CH...
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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