胡远川
【姓名】 胡远川
【职称】 教授;
【研究领域】 无线电电子学;材料科学;
【研究方向】 有机光电材料研究
【发表文献关键词】 有机薄膜晶体管,铜酞菁,缓冲层,开关电流比,铜酞菁缓冲层,柔性,界面电阻,聚四氟乙烯,有机薄膜,场效应晶体管,载流子迁移率,transistor,电致发光,器件性能,有机电致发光,流明效率,子迁移率,...
【工作单位】 清华大学
【曾工作单位】 清华大学;
【所在地域】 北京
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[1]邱勇,胡远川,董桂芳,王立铎,谢俊锋,马亚宁.柔性全有机薄膜场效应晶体管的制备和性能[J]科学通报.2003,(09)
[2]胡远川,王立铎,董桂芳,张德强,邱勇.铜酞菁缓冲层改善有机电致发光器件性能的机理研究[J]功能材料.2002,(03)
[3]邱勇,胡远川,董桂芳,王立铎,高裕弟.有机薄膜场效应晶体管的研制[J]科学通报.2002,(08)
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