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甘正浩
【姓名】
甘正浩
【职称】
【研究领域】
工业通用技术及设备;无线电电子学;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】
SiOx膜层,化学气相沉积(CVD),性能,滑动磨损,SiOx,PVCD,硅氧化物,铝基,显微结构,常压化学气相沉积(APCVD),铝基SiOx膜层,光学性能,SiO_x,性能研究,紫外可见光吸收,铝...
【工作单位】
南洋理工大学
【曾工作单位】
南洋理工大学;
【所在地域】
新加坡
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共找到4篇
[1]张际亮;郦剑;沃银花;王幼文;甘正浩;.
铝表面SiO_X薄膜结合性能与机理研究
[J]材料热处理学报.2006,(01)
[2]张际亮,郦剑,沃银花,王幼文,沈复初,甘正浩.
铝表面化学气相沉积SiO_x膜层的显微结构和性能
[J]中国有色金属学报.2004,(06)
[3]张际亮,沃银花,郦剑,甘正浩,徐亚伯.
铝基APCVD沉积SiO_x膜层的光学性能研究
[J]浙江大学学报(工学版).2005,(08)
[4]张际亮,沃银花,郦剑,甘正浩.
铝基SiOx膜层滑动磨损及其机理研究
[J]材料科学与工程学报.2005,(03)
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合作过的学者
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张际亮
浙江大学
3
沃银花
浙江大学
3
徐亚伯
浙江大学
1
郦剑
浙江大学
3
沈复初
浙江大学
1
王幼文
浙江大学
1
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