赵新为
【姓名】 赵新为
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 电化学生长法,场发射,多孔硅,阵列,场致发射阴极,场致发射特性,场致发射,电子源,硅柱,真空微电子,电化学生长,铜膜,生长液,生长法,玻璃基片,阳极,阵列阴极,薄膜场发射,腐蚀法,点阵,发射曲线,阳极...
【工作单位】 南开大学
【曾工作单位】 南开大学;
【所在地域】
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[1]周清，岳卫民，张莉，赵力斌，赵守珍，梁翠果，谢宝森，赵新为，周杏弟.电化学生长法制备薄膜阵列场致发射阴极的研究[J]电子器件.1994,(03)
[2]周清，张莉，赵新为，赵力斌，赵守珍，梁翠果，谢宝森，邱久文，付刚.多孔硅场致发射特性研究[J]电子器件.1994,(03)
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