张佐兰
【姓名】 张佐兰
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 光氧化,氧化技术,工业化大生产,栅介质,激光增强,击穿特性,激光诱导,化学汽相淀积,新技术,等温,特性研究,氧化膜,激光,薄栅介质,电流-电压特性,清洗方法,氯化氢,CMOS,质量,生产线,介质膜,热...
【工作单位】 南京工学院
【曾工作单位】 南京工学院;
【所在地域】
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[1]张佐兰;.介绍几种薄膜制备新技术[J]电子工艺技术.1985,(12)
[2]张佐兰;.大规模集成电路工艺中的激光技术[J]电子工艺技术.1986,(11)
[3]张佐兰;冯耀兰;崔秀华;张云晋;.氮化铝薄膜的实验研究[J]电子工艺技术.1987,(12)
[4]张佐兰,冯耀兰,刘荣章,陈剑云.簿栅介质膜的电特性研究[J]半导体技术.1988,(06)
[5]张佐兰.激光氧化新技术[J]微电子学.1988,(03)
[6]张佐兰;.氮系Ⅲ—Ⅴ族化合物—A1N[J]电子工艺技术.1989,(01)
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