吴乃钧
【姓名】 吴乃钧
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;无机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】 电抛光,膦酸,HEDP,线光,电子能谱,液膜,抛光性能,抛光液,铜表面,标准铜,溅射,抛光效果,槽电压,抛光,铜试样,峰位,乙叉,H_3PO_4,甲叉,核聚合,
【工作单位】 南京大学
【曾工作单位】 南京大学;
【所在地域】 南京
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[1]方景礼;吴乃钧;.XPS和AES研究铜表面PMTA防变色膜[J]中国腐蚀与防护学报.1989,(04)
[2]Toshi Miyawaki;吴乃钧;.车身磷化前处理工艺中表面调节剂的作用[J]表面技术.1989,(02)
[3]方景礼,丁建平,吴乃钧.有机多膦酸的电抛光性能及电抛光粘液膜的组成[J]应用化学.1990,(01)
[4]方景礼;吴乃钧;王占文;方晶;叶向荣;.BTL-1光亮、高效、无低电流腐蚀通用镀铬工艺[J]电镀与涂饰.1990,(02)
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