俞慧强
【姓名】 俞慧强
【职称】 讲师;工程师;
【研究领域】 无线电电子学;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】 III族氮化物材料和器件
【发表文献关键词】 氢化物气相外延(HVPE),位错中止腐蚀,光助电化学(PEC)腐蚀,进展,AlxGa1-xN/GaN异质结,HFET,异质结场效应晶体管,电容电压特性,氮化镓,位错,光助,极化电荷,n型GaN,电容电...
【工作单位】 南京大学
【曾工作单位】 南京大学;
【所在地域】 南京
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[1]俞慧强;修向前;张荣;华雪梅;谢自力;刘斌;陈鹏;韩平;施毅;郑有炓;.用氢化物气相外延(HVPE)法生长的氮化铟薄膜的性质研究[J]高技术通讯.2014,(09)
[2]李烨操;胡海楠;刘斌;张荣;滕龙;庄喆;谢自力;陈敦军;郑有炓;陈强;俞慧强;.富In组分的InGaN合金组分及温度对声子模特性的影响[J]中国科技论文.2013,(07)
[3]俞慧强;李斌斌;张荣;修向前;谢自力;叶宇达;张孟群;陈强;沈剑沧;.掺Ni的ZnO粉末的Raman光谱研究[J]光学学报.2009,(05)
[4]葛瑞萍;韩平;吴军;王荣华;俞斐;赵红;俞慧强;谢自力;张荣;郑有炓;.Si_(1-x)Ge_x:C缓冲层的生长温度对Ge薄膜外延生长的影响[J]中国激光.2009,(05)
[5]谢自力;张荣;修向前;韩平;刘斌;陈琳;俞慧强;江若琏;施毅;郑有炓;.用于紫外探测器DBR结构的高质量AlGaN材料MOCVD生长及其特性研究[J]物理学报.2007,(11)
[6]修向前,张荣,李杰,卢佃清,毕朝霞,叶宇达,俞慧强,郑有炓.额外HCl和氮化对HVPE GaN生长的影响[J]半导体学报.2003,(11)
[7]李杰,张荣,修向前,卢佃清,俞慧强,顾书林,沈波,郑有炓.Mn~+离子注入的GaN薄膜的光学性质及其磁性[J]半导体学报.2003,(12)
[8]修向前,张荣,徐晓峰,俞慧强,陈丽星,施毅,郑有炓.溶胶-凝胶法制备ZnO基稀释磁性半导体薄膜[J]高技术通讯.2003,(03)
[9]俞慧强,张荣,周玉刚,沈波,顾书林,施毅,郑有炓.III族氮化物基的肖特基势垒二极管的研制[J]高技术通讯.2003,(07)
[10]李亮;张荣;谢自力;张禹;修向前;刘成祥;毕朝霞;陈琳;刘斌;俞慧强;韩平;顾书林;施毅;郑有炓;.MOCVD生长In_xGa_(1-x)N薄膜的表征[J]人工晶体学报.2005,(06)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]俞斐;吴军;韩平;王荣华;葛瑞萍;赵红;俞慧强;谢自力;徐现刚;陈秀芳;张荣;郑有炓;.4H-Si_(1-y)C_y合金的生长及特性[A].第十五届全国化合物半导体材料,微波器件和光电器件学术会议论文集.2008-11-30
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