郝西萍
【姓名】 郝西萍
【职称】
【研究领域】 仪器仪表工业;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 反应离子刻蚀RIE,SEM成像,薄膜,超导隧道结,制备,离子源,多层结构,边缘,方法,湿法腐蚀,微带,微细加工,绝缘层,图形,光刻胶,反应离子腐蚀,衬底,工作气压,直接影响,工作条件,
【工作单位】 南京大学
【曾工作单位】 南京大学;
【所在地域】 南京
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[1]孙静;康琳;刘希;赵少奇;吉争鸣;吴培亨;郝西萍;.反应离子刻蚀与离子刻蚀方法的研究与比较[J]低温物理学报.2006,(03)
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