程光熙
【姓名】 程光熙
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 超微颗粒,非晶碳膜,高场,多层膜,石墨结构,金刚石结构,H膜,Ar~+激光,PECVD法,磁化强度,有源层,周期数,比饱和磁化强度,金刚石,界面区,反应气氛,中性自由基,沉积膜,自旋,向异性,交换各向...
【工作单位】 南京大学
【曾工作单位】 南京大学;
【所在地域】
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[1]王文鼐，蒋正生，桑海，程光熙，葛翔，都有为.Ni／NiO界面的高场磁化研究[J]物理学报.1996,(01)
[2]黄信凡,李志锋,程光熙,朱惠英.用于TFT有源层的Ar~+激光结晶a-Si:H的性质(英文)[J]固体电子学研究与进展.1989,(04)
[3]顾书林,何宇亮,王志超,孙剑,程光熙.用PECVD法沉积α-C:H薄膜的研究[J]固体电子学研究与进展.1992,(01)
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